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前田 満*; 上原 和也; 雨宮 宏*
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 38(5A), p.2971 - 2972, 1999/05
被引用回数：4 パーセンタイル：23.76(Physics, Applied)トカマク周辺プラズマの流れ(マッハ数)の測定方法を拡張する研究を行った。従来、流れの測定にはマッハプローブが用いられているものの、電子温度≧イオン温度の仮定のもとで、マッハ数を求めることが一般的であった。しかし、近年JFT-2MやTEXTORにおいて、イオンプローブを用いた周辺プラズマの測定では、イオン温度
電子温度の結果が得られている。本研究においては、これらの点に鑑み、非対称ダブルプローブと、マッハプローブから構成されるプローブを製作して測定を行った。イオン温度と電子温度は非対称ダブルプローブを用いて、マッハ数はマッハプローブの平板が磁力線に平行になった位相での両電極の飽和電流比にイオン温度/電子温度の比を考慮して求めた。その結果、より正確なマッハ数が求められる測定方法が可能となった。
津島 晴*; 上原 和也; 雨宮 宏*
Journal of Plasma and Fusion Research SERIES, Vol.2, p.81 - 84, 1999/00
JFT-2Mのスクレイプオフ層では、新型の2つのダブルプローブを用いてイオン温度が測定され、通常のラングミュアプローブにより密度と電子温度を測定しているが、これらの諸量はいずれも指数関数的に減少する結果を得ている。これらの値を用いて、スクレイプオフ層の粒子熱輸送係数を求めた。今回の成果は、従来無視していた、中性粒子によるソース項を正確に取り入れることによって輸送モデルを見直し、粒子・熱輸送係数を修正した。その結果リミター端でのT
=80eV,T
=6eVの時の粒子拡散係数D
=0.6~0.7m
/s、電子熱拡散係数
=2.0~2.7m/s、イオン熱拡散係数
=2.3~2.5m/sという値が得られた。この値は、ボーム拡散係数の数倍の値となっている。
前田 満*; 上原 和也; 雨宮 宏*
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 36(11), p.6992 - 6993, 1997/11
被引用回数：6 パーセンタイル：36.76(Physics, Applied)トカマクプラズマの輸送の解明には、周辺プラズマのイオンの振る舞いや流れが重要な鍵を握ると言われている。そのような観点から、周辺プラズマのイオン温度に関する情報と流れの情報を同時に計測することは重要である。今回、非対称ダブルプローブ法を拡張させることにより周辺プラズマのイオン温度とプラズマの流れを同時に計測できるようにした。イオン温度は非対称円筒ダブルプローブを磁場中で回転させ、プローブ円筒軸が磁力線に平行になった位相での両電極のイオン飽和電流の比からイオン温度を求める。プラズマの流れは位相が垂直になった場合のデータを解析することによって求める。このようなイオン温度とプラズマの流れの同時計測は今後周辺プラズマの解明に役立つものと考えられる。
上原 和也; 仙石 盛夫; 雨宮 宏*; JFT-2Mグループ
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1, 36(4A), p.2351 - 2355, 1997/04
被引用回数：5 パーセンタイル：32.62(Physics, Applied)周辺プラズマの分布を瞬時測定するための新しいプロープがJFT-2Mで開発された。このプロープは、雨宮により発明されている。非対称ダブルプローブをトカマク周辺の強い磁場中で、磁場に対して平行に5個並べたもので、歯ブラシプローブと名付けられた。このプローブは、トカマク放電のほんの1ショットで、電子温度やプラズマ密度だけでなく、イオン温度の分布が瞬時に測定できる。開発に当たっては、まず1個の非対称プローブをダイバータ板に固定して測定して、イオン温度が測定できることを確認した後、歯ブラシプローブとして製作した。測定の結果イオン温度を含めた、プラズマパラメータの分布の瞬時測定に成功した。この測定方法は、拡散係数や熱伝達係数等のトカマク周辺のプラズマ輸送の解明に必要なデータを供給できるものと期待される。
前田 満*; 上原 和也; 雨宮 宏*
Proc. of 24th European Physical Society Conf. on Controlled Fusion and Plasma Physics, 21A, p.709 - 712, 1997/00
トカマク周辺領域では、プラズマ輸送に対してイオン温度は重要な因子となる。われわれはこれまでJFT-2Mにおいて、おもに非対称ダブルプローブ法により周辺プラズマの温度計測を行ってきた結果、イオン温度が電子温度よりも上回ることを明らかにした。本方法は、非対称ダブルプローブを磁場中で回転させプローブ円筒軸が磁力線に平行になった位相での両電極のイオン飽和電流の比からイオン温度を求めるものである。今回、位相が垂直になった場合のデータを解析することによって、周辺プラズマのイオンの流れに関する知見が得られ、プラズマ流速の計測にも適用範囲を拡張できた。このようなプラズマの流れはその程度に依存してイオン輸送や周辺プラズマに影響を与えることが予想され、周辺プラズマの解明に役立つものと考えられる。
雨宮 宏*; 上原 和也
Review of Scientific Instruments, 65(8), p.2607 - 2614, 1994/08
被引用回数：21 パーセンタイル：83.6(Instruments & Instrumentation)強磁場プラズマ中のイオン温度の測定が、静電プローブを用いて評価できることが、理論的に示され、原研JFT-2Mトカマクのエッジプラズマで実際に測定が行われた。静電プローブによるイオン温度測定法は、磁場に平行に置かれた、長さの違う2つの静電プローブをダブルプローブとして用いた時のイオン飽和電流の値から求めるものである。この方法は雨宮氏によって開発されたものであるが、この論文ではさらにこの方法を発展させプラズマ中に流れがある時の定式化を行い、実際のトカマクプラズマに適用できるものとした。実験はJFT-2Mトカマクでなされ、この方法によってイオン温度をオーミックプラズマ中及びNBI加熱中に求めることに成功した。
